K&F Concept K&F 58MM, ultra-nízký odrazový UV filtr série NANO-X, ultra čiré čočky, vodotěsné, proti poškrábání

Detailní popis produktu

UV filtr K&F 58MM Nano-X Ultra-Low Reflection nabízí výjimečnou čistotu a ochranu pro váš objektiv. Díky svým pokročilým povrchovým úpravám a kvalitnímu optickému sklu zvyšuje kvalitu obrazu a snižuje nežádoucí odrazy a odlesky.

Vlastnosti

• UV filtr s ultranízkým odrazem: Titanová povrchová úprava snižuje odraz povrchu na 0,1%, čímž se zvyšuje propustnost světla a minimalizují se duchové a odlesky v protisvětle.
• Prémiové optické sklo: Optické sklo HD zajišťuje obraz ostrý jako břitva a přesnou reprodukci barev.
• Optimální kvalita obrazu: Poskytuje ≥99,8% propustnost světla a ≤0,1% odraz, ideální pro 4K/8K video a fotografie s vysokým rozlišením.
• Technologie MRC: 28vrstvý multi-odolný nátěr obsahuje zelený nano nátěr, díky čemuž je filtr odolný vůči poškrábání, vodě a prachu.
• Tenký rám bez vinětace: Lehký hliníkový rám o tloušťce 3,3 mm snižuje riziko vinětace, vhodný pro širokoúhlé snímání.