K&F Concept K&F 49MM, ultra-nízký odrazový UV filtr série NANO-X, ultra čiré čočky, vodotěsné, proti poškrábání

Kód: AVY-KF01.2460
Neohodnoceno
Značka: K&F Concept
1 348,11 Kč 1 114,14 Kč bez DPH
Skladem (3 ks)
Možnosti doručení

Detailní informace

Detailní popis produktu

StránkaUltra-nízkoodrazový UV filtr K&F 49MM série Nano-X je navržen tak, aby zlepšil kvalitu obrazu snížením odrazů a zlepšením propustnosti světla. Tento UV filtr je vyroben z prvotřídních materiálů a pokročilých technologií povrchové úpravy, aby byla zajištěna odolnost a vysoký výkon, díky čemuž je vynikající volbou pro fotografy, kteří chtějí chránit své čočky při zachování skutečných barev a ostrosti svých snímků.

Klíčové vlastnosti

  • Ultra nízký odraz:

    • Technologie titanové povrchové úpravy snižuje povrchový odraz na 0,1%.
    • Zlepšuje propustnost světla a minimalizuje odlesky v protisvětle a duchy.
    • Zajišťuje bezvadnou ostrost a čistotu.
  • Prémiové optické sklo:

    • Vyrobeno z optického skla s vysokým rozlišením (HD).
    • Zachovává skutečnou barvu fotografií a poskytuje snímky ostré jako břitva.
  • Optimální kvalita obrazu:

    • Míra propustnosti světla ≥ 99,8 %.
    • Míra odrazu ≤ 0,1 %, ideální pro natáčení 4K/8K HD videa a vysoce kvalitní fotografické zobrazování.
  • 28vrstvý Multi-Resistant Coating (MRC):

    • Zelená nano povrchová úprava činí filtr odolným proti poškrábání, vodoodpudivý a odolný vůči olejům a prachu.
    • Zvyšuje odolnost a životnost filtru.
  • Tenký rám bez vinětace:

    • Tenký a lehký hliníkový rám o tloušťce 3,3 mm.
    • Snižuje dopad světla a efektivně se vyhýbá tmavým rohům při širokoúhlém snímání.

technické údaje

  • Průměr: 49 mm
  • Materiál: HD optické sklo
  • Nátěry: 28-vrstvý multi-odolný nátěr (MRC)
  • Materiál rámu: Hliník
  • Tloušťka rámu: 3,3mm
  • Rychlost přenosu světla: ≥ 99,8 %
  • Míra najednou: ≤ 0,1 %

Popis

StránkaUltra-nízkoodrazový UV filtr K&F 49MM série Nano-X je navržen tak, aby poskytoval fotografům vynikající kvalitu obrazu a zároveň chránil jejich čočky. Využitím pokročilé technologie titanové povrchové úpravy tento filtr snižuje povrchové odrazy na působivých 0,1 %, čímž výrazně zvyšuje propustnost světla a minimalizuje nežádoucí odlesky a duchy. To zajišťuje, že vaše obrázky jsou ostré a jasné a zachovávají skutečné barvy zachycené vaším fotoaparátem.

Tento UV filtr vyrobený z optického skla s vysokým rozlišením zajišťuje kvalitu obrazu ostrou jako břitva. Míra propustnosti světla ≥ 99,8 % a míra odrazu ≤ 0,1 % činí tento filtr vhodný pro natáčení videa v rozlišení 4K a 8K, jakož i pro fotografické zobrazování ve vysokém rozlišení.

Filtr má 28vrstvý multi-odolný povlak, který obsahuje zelený nano povlak. Díky tomu je filtr odolný vůči poškrábání, odpuzuje vodu a je odolný vůči oleji a prachu, což zajišťuje jeho odolnost a dlouhou životnost. Tenký a lehký hliníkový rám o tloušťce pouhých 3,3 mm minimalizuje vliv na propustnost světla a účinně zabraňuje vinětaci i při fotografování širokoúhlými objektivy.

Závěr

StránkaUltra-nízkoodrazový UV filtr K&F 49MM série Nano-X je nezbytným doplňkem pro fotografy, kteří chtějí zlepšit kvalitu obrazu a zároveň chránit své čočky. Jeho pokročilé technologie povrchové úpravy, prémiové optické sklo a tenký design z něj činí spolehlivý a vysoce výkonný nástroj pro zachytávání ostrých, jasných a věrných obrázků. Ať už natáčíte videa ve vysokém rozlišení nebo fotografie ve vysokém rozlišení, tento UV filtr zajišťuje optimální kvalitu obrazu a ochranu objektivu.

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Bezpečnostní kontrola